
PMファイバ

波長:980 ~ 1550nm
PCVD(Plasma Chemical Vapor Deposition)プロセスにより、
高複屈折、低減衰、±1.0μmの公差を実現。
ダブルUVコーティング構造により広い温度範囲で高い安定性を発揮。
ファイバジャイロや偏波依存性が高いデバイス用としても最適。
TEL03-5800-1341 FAX03-5800-1342
波長:980 ~ 1550nm
PCVD(Plasma Chemical Vapor Deposition)プロセスにより、
高複屈折、低減衰、±1.0μmの公差を実現。
ダブルUVコーティング構造により広い温度範囲で高い安定性を発揮。
ファイバジャイロや偏波依存性が高いデバイス用としても最適。